Hynek Alt a Adam Hudec - Pod povrchom

Hoci patria k odlišným generáciám a vychádzajú z rozdielneho vzdelania i umeleckých skúseností, spája ich záujem o skúmanie mechanizmov, ktoré formujú naše vnímanie sveta, no zostávajú skryté pod jeho zdanlivo samozrejmým povrchom. Práve napätie medzi ich prístupmi vytvára priestor pre dialóg, v ktorom sa fotografia, architektúra, výskum, objekt, inštalácia či práca s dátami navzájom dopĺňajú.

Hynek Alt, absolvent Ateliéru fotografie na FAMU, rozvíja postkonceptuálny prístup k fotografii. Fotografický obraz chápe ako súčasť širších technologických, materiálnych a spoločenských systémov.

Adam Hudec vyštudoval architektúru, no podobne ako Alt prekračuje hranice svojej pôvodnej disciplíny. Architektúra sa v jeho tvorbe stáva východiskom pre skúmanie prostredia, materiálových procesov a ekologických vzťahov. Vo svojom výskume sa venuje fenoménu prachu – nenápadnej, no všadeprítomnej substancii, ktorá prepája architektúru, mestské prostredie, biologické procesy i pamäť krajiny.

Významným styčným bodom oboch autorov je spôsob práce s obrazom. Aj keď obaja usilujú o realistické zobrazenie sveta, na výstave nenájdete tradične esteticky uzavretú fotografiu. Ich obrazy vychádzajú z reality, no prostredníctvom komentovania, abstrahovania, redukcie alebo transformácie ju zbavujú samozrejmosti. Neponúkajú odpovede, ale vytvárajú priestor pre otázky. Stávajú sa stopami, indíciami alebo mapami javov, ktoré nemožno zachytiť jediným pohľadom. Práve v tomto zmysle názov výstavy Pod povrchom odkazuje nielen na materiálnu štruktúru sveta, ale aj na vrstvy významov, procesov a vzťahov ukrytých za tým, čo vidíme.

Kurátorka: Zuzana Pastirčák Duchová